NIL技术能取代EUV光刻机吗?EUV光刻机在半导体制造业的地位非常高 , 人类经历了二三十年的研究 , 上百家科研机构和各国顶级科技的加持 , 成功让ASML造出了EUV光刻机 。
想要用另一种方式实现5nm芯片制造 , 先不说是如何做到的 , 如果是真的 , 佳能NIL技术能取代EUV光刻机吗?或许不太可能 , NIL技术的出现最多只是一个补充 , 无法完全取代EUV光刻机 。
原因很简单 , 因为等佳能利用NIL技术造出5nm芯片时 , 最快也是2025年的事情了 。 到时候ASML交付市场客户的EUV光刻机数量至少有四五百台左右 。
这么多的EUV光刻机足以遍布芯片制造商的生产线 , 该买的EUV光刻机都买的差不多了 。 一旦生产线饱和 , 很难容纳新的设备进入 。
而且新设备需要调试 , 需要大量的时间进行验证 。 一个是经过工程师准确调试 , 生产无误的EUV光刻机 , 另一个是不知产能 , 性能水准的新设备 , 芯片制造商会如何选择一目了然 。
当然 , 作为补充的话 , NIL设备的耗电量以及设备投资还是比较吸引人的 。 EUV光刻机太贵了 , 也不是所有国家都能买得到 , 因此NIL设备对一些无法采购到EUV光刻机的制造商来说 , 或许是一种解决方案 。
写在最后对于佳能这样一台设备 , 一旦成功量产 , 还能实现5nm芯片生产的话 , 有可能改变半导体制造业的格局 。 其官宣或在2025年量产可用于5nm芯片生产的设备 , 不过一切还需要静观其变 , 在此之前 , 国产也得继续努力 。
对此 , 你们怎么看呢?欢迎留言和转发 。
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