中国光刻机的新突破中国光刻机的新突破介绍( 二 ) _光刻

传中国已经设计好35nm光刻机，那么它何时能制作出来呢?不存在传言中的35nm光刻机,按照国内的十三五规划,我们的目标是研发出“28nm节点浸没式分步重复投影光刻机”并实现产业化,至于这台机器什么时候能出来,我们可。
哈工大突破euv是真的吗?是真的。哈工大取得光刻机技术突破!EUV光刻机、7nm手机芯片要来了。哈工大宣布他们已经攻克了制造EUV光刻机的关键技术,哈工大积极的搞研发,希望在光刻机技术。