目的当然是为了打压国产的进步 ， 应该是获悉了国产ArFi沉浸式光刻机即将突破 。
再者 ， 内部人士也有相关爆料关于国产光刻机 ， 我们一直在努力 ， 甚至连EUV相关的技术也早就已布局 。 但大家不知道的是 ， 今年以来在突破国产先进光刻机方面加大了力度 ， 力争能够尽快突破 。
近期有网友在网上曝光了一个聊天截图 ， 谈话的内容就是关于国产先进光刻机的研发 ， 表示已经下达了硬性任务 ， 并且抽调了相关的很多机构研发人员 ， 正在联合攻坚 。
关于具体的进度并没有过多透露 ， 不过意思表示 ， 应该可以尽快取得重要进展 。
从以上三点可以看出 ， 国产沉浸式光刻机应该快了 。 一旦实现了这个关键节点的突破 ， 接下来就能够做出更先进的DUV光刻机 ， 这就解决了国产芯片制造绝大多数限制 。
DUV高端光刻机如果能实现突破 ， 接下来再突破EUV ， 应该也就更加的容易了 。
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