|国产光刻机精度虽然低，把CPU尺寸做大些获得同样性能可行吗？
【|国产光刻机精度虽然低，把CPU尺寸做大些获得同样性能可行吗？】
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国产古光刻机精度虽然低 ， 把CPU尺寸做大些获得同样的性能可行吗？答案是不可行 ， 要说起来国产自研发处理器的厂商确实不多 ， 目前我们可能知道最多的就是华为和龙芯 ， 确实我们在军用方面现在很多用的是65nm公司的技术 ， 这也是目前国内光刻机上海微电子目前最成熟的工艺 ， 不过军用方面确实没有问题 ， 在国外也会发现军用方面CPU工艺制程也不高 ， 原因就在于说本身军用处理器对于性能的要求不高 ， 所以不需要说像现在商用的CPU一样需要考虑到晶体管的数量 ， 再者就是要求稳定 ， 工艺虽然看着很差 ， 但是经过测试发现工艺越高 ， 抗干扰的能力就越低 ， 所以现在军用的确实工艺都不高 ，
但是我们还要考虑到一个问题 ， 那就是商用和军用的不同 ， 比如就拿华为来说 ， 如果把尺寸做大 ， 也就意味着手机尺寸要增加 ， 而且你要考虑到功耗和发热 ， 电脑确实现在比如intel大多数还是集中在14nm ， 这是因为电脑主机尺寸大 ， 所以散热做的更好 ， 但是手机确实不可以 ， 而且现在你看看大多数都是集中在7nm手机现在的处理器 ， 功耗和发热一样会很大 ， 你如果采用之前的工艺那功耗和发热会怎样 ， 确实不敢想象 。
实际不管是电脑还是手机处理器这种方式都不可行 ， 工艺越高晶体管数量越多 ， 实际就是为了保证性能和功耗的均衡 ， 但是你只顾增加尺寸 ， 对于工艺不做要求 ， 那么散热就要做的很好 ， 但是我们看到的情况 ， 现在intel的14nm处理器 ， 我们发现即便是有散热的情况下 ， 电脑还是会发热 ， 这么大的主机体积和散热都压制不住 ， 手机怎么压制 。 而且现在光刻机国内完全自主研发的就是上海微电子 ， 现在还是保持在65nm ， 至于说的28nm目前听说是将要在年底才会上线 ， 所以还是不确定的状态 。
现在军用CPU就是如此 ， 因为散热做的更好再加上要求不高 ， 但是商用的电脑处理器手机处理器这种方式是不可行的 ， 工艺差 ， 你通过提升面积来增加性能 ， 功耗和发热需要考虑到 ， 而且国内最高65nm ， 这个发热量确实有点大了 。
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