这次招标 ， 暴露出了国产光刻机和阿斯麦尔光刻机之间的差距 ， 意味着国产光刻机的发展依旧是任重而道远 ， 不仅仅是DUV ， EUV ， 还有那些已经实现国产化的后道光刻机方面 。 正所谓居安思危 ， 我们在进步 ， 但是也并不代表阿斯麦尔就在那边原地踏步 ， 那么 ， 未来 ， 阿斯麦尔还将可能会给我国光刻机的发展带来哪些不友好的信号呢？
阿斯麦尔还将带给国产光刻机发展哪些不好的信号2022年5月17日 ， 阿斯麦尔当天在自己的公众号中发表了一篇名为《创新 ， 让摩尔定律焕发光彩》的文章 。 在这篇文章中 ， 虽然目前面临摩尔定律的极限 ， 但是 ， 阿斯麦尔自信 ， 凭借着现有技术 ， 完全有能力实现1纳米工艺制程芯片生产设备的落地 ， 摩尔定律可以继续生效十年甚至更长的时间 。
这不是说大话 ， 目前阿斯麦尔还是有不少技术创新的 ， 比如 gate-all-around FETs、nanosheet FETs等等前瞻技术 。 此外 ， 阿斯麦尔在光刻系统分辨率和边缘放置误差对精度的衡量 ， 据说都可以推动芯片尺寸进一步缩小 。
看样子 ， 阿斯麦尔的实力不仅强劲而且还在不断进步 ， 因为 ， 未必不能给国产光刻机的发展带来难题 。
另外 ， 根据路透社5月20日报道 ， 阿斯麦尔正在研发一款半导体新型光刻机 ， 价值高达4亿美元 ， 大小方面就和我们常见的双层巴士差不多 ， 重量超过了200吨 ， 将用于生产下一代芯片 ， 芯片的应用范围可以覆盖手机、汽车、AI等等 ， 这台新型的 ， 更加先进的光刻机有希望在2023年 ， 也就是明年亮相市场 。
这样一来 ， 在阿斯麦尔自身光刻机设备生产实力不断增强的情况下 ， 又如何不会是国产光刻机发展的难题呢？
总结【光刻机|国产光刻机被中企拒之门外，ASML大获全胜，意味着什么？】国产光刻机无缘上海积塔半导体光刻机设备招标 ， 反而让阿斯麦尔直接包圆 。 这意味着我国和阿斯麦尔之间依旧还存在着相当一定程度上的差距 。 未来 ， 国产光刻机的发展依旧是任重而道远 。
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