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一个好消息 ， 国产光刻机又有新的重大突破 ， 一项关键的核心技术即将被解决 ， 我们距离自己的EUV光刻机又近了一步 。 也怪不得ASML现在越来越着急了 ， 我们所突破的光刻机技术越来越多 ， 核心技术也有所进展 ， 虽然目前对ASML的并没有多大威胁 。
但随着时间流逝 ， ASML已经感觉到越来越沉重的压力了 。
ASML的着急
前几年还在说就算给我们图纸也造不出来光刻机的ASML ， 今年却一反常态 ， 对我们开始玩起了“倾销” 。 数据显示 ， 今年第一季度 ， ASML向我们出口光刻机数量21台 ， 占到其总销量的34% ， 我们也首次成为了ASML的最大出货市场 。
过去 ， ASML向DL出货的光刻机数量总共也就50多台 ， 可以说是相当“抠门” 。 结果今年光是第一季度就出货21台 ， 这是想开了？不 ， 无事献殷勤 ， 必然是没安好心 。
ASML向我们出售的都是老旧型号的DUV光刻机 ， 要么是我们能造的 ， 要么是我们很快就能造的那种 。 ASML选择这个时候出售 ， 其实就是在变相打压国产光刻机 。
除了向我们大量出售DUV光刻机之外 ， ASML还决定扩大国内的研发中心 ， 计划增加200名研发人员 ， 并还要建造维修中心 。 这个投资力度说大不大 ， 但说小也不小 ， 实际上就是想凭借自己的优势把国内的光刻机扼杀在摇篮中 。
国产光刻机再突破 ， 这次是透镜
虽然ASML试图在国内找回自己的地位 ， 但是我们对此并不买单 ， 毕竟上过的当已经好几回了 。 这一次 ， 光刻机自主化势在必得 ， 国内诸多大学和研究院都在为此而努力 。 并且 ， 我们已经取得了很多的突破 ， 相较于过去 ， 国产光刻机早已今非昔比 。
随着时间流失 ， DUV光刻机对我们而言将不再是挑战 ， 接下了EUV光刻机才是我们攻克的重点 。 EUV光刻机是制造业的皇冠 ， 集合了西方技术结晶 ， 零件达到十万之多 。 目前 ， 世界上也只有EUV光刻机 。
我们要突破EUV光刻机 ， 其三大核心就绕不过去 ， 分别是光学系统、光学镜头和双工作台系统 。
而这一次我们突破的正是光学系统的部分 。 来自港城大学电机工程系的蔡定平教授团队 ， 在Science Advances发表了一篇名为《真空紫外非线性超构透镜》的文章 ， 其中所记载的新型超构透镜 ， 是我们突破光刻机又一大技术门槛的希望所在 。
EUV光刻机的光源是极紫外光 ， 所以其实际上叫做极紫外线光刻机 。 而蔡定平教授团队研发的新型真空紫外非线性超构透镜 ， 能够产生和聚焦极紫外光 ， 并能够将波长395nm转化为197nm。 聚焦光点的功率密度比超构透镜高了21倍 。
据悉 ， 这一突破能够应用于EUV光刻机之中 ， 帮助国产光刻机突破技术瓶颈 。 并且 ， 这一技术还属于EUV光刻机的核心技术 ， 对实现EUV光刻机自主有重大意义 。
总结
【黑莓|光刻机最重要的核心技术被突破？怪不得ASML这么急】可以发现 ， 虽然EUV光刻机号称制造业的皇冠 ， 但其并不是完全不可突破 。 至少 ， 我们已经突破了很多技术 ， 其中还包括最核心的那部分 。 “只要功夫深 ， 铁杵也能磨成针” ， 相信EUV光刻机自主早晚能够实现自主 。
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