芯片|日企突破新技术，不用EUV光刻机，也能造成高端芯片？( 二 )
对于我国国产芯片的影响
日本这项性技术一旦研发成功 ， 可能很多人会觉得是一件好事 ， 会促进国产芯片的崛起 。 其实未必 ， 日本新技术如果一旦成功 ， 对于我国反而可能会很不利 。
首先 ， 日本新技术将会带动日本半导体行业的巨大发展 。 这将会使得我国在国际社会上又多了一个强劲的对手 。 毕竟日本的这项技术可以算是日本的核心技术 ， 根本不可能分享给我国促进我国国产芯片崛起 。
反而 ， 随着日本新技术的成熟 ， 可能最终会成为我国半导体行业最大的威胁 。
当然 ， 这是根据目前短期来说的 ， 如果长期的话就不一定了 。 日本铠侠公司表示2025年实现量产 。 而到时候我国有可能就不需要这样的技术了 。 因为根据阿斯麦尔公司CEO温彼得表示 ， 我国将会在五年内攻克芯片产业链上所有技术困局 。
因此 ， 如果从这方面来看 ， 日本这项技术对于国产芯片发展的影响 ， 其实也不是这么大 。
总结
日本铠侠 ， 用四年的时光研究出摆脱EUV光刻机的新技术 ， 试图在2025年实现高端芯片的量产 。 这对于以高端光刻机为生的阿斯麦尔而言 ， 可以说是一个坏消息了 。
【芯片|日企突破新技术，不用EUV光刻机，也能造成高端芯片？】当然 ， 目前日本铠侠已经成功做出了不用光刻机的15纳米芯片 。 至于五年后 ， 日本铠侠能否如今实现高端芯片量产的计划 。 我们也只有拭目以待了 。
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