芯片|弯道超车要来了？ASML的垄断被打破，未来生产5nm芯片不再需要光刻机
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众所周知 ， 想要制造芯片除了要有制程技术之外 ， 还必须要有光刻机才行 。 目前全球的光刻机市场基本上都被荷兰的阿斯麦所垄断 ， 尤其是在高端光刻机上ASML更是全球唯一一家可以生产的企业 。 所以在高端光刻机定价方面掌握着绝对主动权 ， 每台机器都被阿斯麦卖了天价 ， 其利润率高达50%以上 ， 苹果看来都会直呼内行 ， 就这样还被各大半导体厂商疯抢 。 没办法 ， 不买生产不了芯片呀！但是这一情况或许在不久之后得到改变 。
据了解 ， 日本的铠侠和佳能等合作商开发出了一种叫做纳米印压技术（NIL）的新型半导体工艺 。 这种技术可以用于完成对高制程芯片的生产 ， 实现对高端光刻机的替代 。 目前纳米印压技术已经可以实现对15纳米芯片的量产 ， 正在向5纳米进发 ， 等到可以实现对5纳米的量产 ， 高端光刻机的优势将荡然无存 ， 不可替代的地位或许将会被打破 。 这项技术算是开辟了对制造芯片的另一条思路 。 那么为什么日本的公司可以探索出这项工艺呢？
要知道 ， 日本在半导体领域上一直都是很强的 ， 现在的日本虽然造不出高端光刻机 ， 但是中低端光刻机的制造是没什么问题的 。 早年间日本的尼康是半导体行业的霸主 ， 就连老美都比不上它 ， 其生产的光刻机全球领先 ， 那时的阿斯麦还是个不怎么出名的小企业 。 但是树大招风 ， 日本在该领域的强大 ， 在老美看来是一种威胁 ， 所以就对其进行了打压制裁 ， 尼康就是首当其冲的那个 。 老美为了打压日本的半导体行业成立了一个EUV LLC联盟 ， 汇集了各方面的人才和顶尖公司 ， 研发用于生产光刻机的先进技术 ， 提供给相关的公司 ， 但是尼康不在其中 ， 不能使用其研究成果 ， 这一定程度上导致了尼康的落后和日本在该领域的落后 。 而阿斯麦就是在这时抱上了老美的大腿 ， 开始了发展起来 。
后来的一次决策失误导致了尼康在光刻机领域的永久落后 ， 在当时光刻机正处于技术更新迭代期 ， 能不能在下一代的产品上取得大突破成为了各家公司的关键所在 ， 而尼康在那时选择了求稳 ， 没选用冒险的方式去强推技术更新 。 但是那时的阿斯麦采用了激进的方式 ， 采用了被各大公司拒绝的台积电鬼才工程师提出的沉浸式光刻技术 ， 在推出的新款光刻机制程工艺上超越了尼康 ， 之后就一直领先 ， 直到推出高端光刻机让尼康再也无法追赶 。
可以说日本可以探索研发出可以取代高端光刻机的工艺 ， 其实算得上是厚积薄发吧 。 这个新的工艺对于日本和全行业来说都是比较重要的 ， 那么其有什么优势和劣势 ， 之后真的能取代阿斯麦的光刻机吗？
据了解 ， 其优势是比较明显的 ， 例如生产同样的一块芯片 ， 不仅在成品和芯片性能上没什么差异 ， 其相较于阿斯麦的光刻机还可以节约90%的电量 ， 同时在整体的设备成本上可以节约40% ， 相较于一台光刻机十亿的售价 ， 40%是个惊人的降幅了 ， 相当于直降4亿 。 当然其劣势也比较的明显那就是成品率不高 ， 而成品率是代工厂十分看中的 ， 毕竟本身的芯片生产成品率就不高 ， 如果设备在跟不上 ， 那就很致命了 ， 买设备省下来的钱也就没意义了 。
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