芯片|弯道超车要来了？ASML的垄断被打破，未来生产5nm芯片不再需要光刻机( 二 )
目前此技术还只能实现15纳米的量产阶段 ， 距离5纳米和更高的3纳米等还有很大距离 。 同时阿斯麦的实力也不容小觑 ， 技术摆在那里呢 ， 其现在应该已经在研究更先进的技术了 ， 毕竟现在的高端光刻机虽然还能支持3纳米生产 ， 但是2纳米1纳米就不一定行了 ， 现在的台积电和三星已经在进行相关的部署研发了 。 作为它们的合作商 ， 有它们提供研究数据支持 ， 阿斯麦还是有很大优势的 。 取代比较难 ， 但是日本的纳米印压技术（NIL）还是会给这个行业带来一定的冲击的 。
【芯片|弯道超车要来了？ASML的垄断被打破，未来生产5nm芯片不再需要光刻机】技术是日新月异的 ， 实现对某一个产品的研发不一定要拘束于一点 ， 可以寻求其它方式 ， 日本的这个创新技术在提供了一个攻克芯片生产的思路的同时 ， 也体现了咱们在该领域上的差距 。 目前咱们的光刻机之路还很艰难 ， 这可以理解 ， 毕竟起步晚 。 只要肯努力就行 ， 没什么是造不出来的 。 并且在未来6G出现之后 ， 高端制程的芯片是否还这么有用还很难说 ， 云端服务器的强大一定程度上使得客户端对芯片的要求不像现在这么高 ， 未来谁掌握了6G ， 将会占据主动权 ， 好在咱们的华为和中兴在通信技术上全球领先 。 不过也不可骄傲自满 ， 因为在我们前进的同时 ， 别人也没有停下自己的步伐 。
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