数值孔径决定了能够印制的最小的特征尺寸 。与先前 EUV(极紫外光)机器所具备的 0.33 数值孔径镜片相比 , TWINSCAN EXE:5200 精确度提升了 0.55 的数值孔径 , 为更小的晶体管特征提供更高的分辨率图案化 , 甚至具备每小时 200 片以上晶圆产能 。
【USB|Intel 联手 ASML,为 2025 年 High-NA EUV 量产铺路】Intel 执行副总裁暨技术开发事业部总经理 Ann Kelleher 博士表示 , 透过与 ASML 的密切合作 , Intel 将汲取 High-NA EUV 的高解析度图案化优势 , 作为延续摩尔定律的其中一个方式 , 并将追寻晶体微缩的优良传统延续下去 , 保持半导体微影技术的领先地位 。
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