另一方面 , 大毛投资6.7亿卢布开发全新的光刻机设备:无掩模X射线光刻机 , 它是全球仅有且光刻精度达到EUV级别的光刻机 。 X射线的波长介于0.01nm到10nm之间 , 比EUV的13.5nm还要短 , 所以它的分辨率或许会比EUV光刻机高很多 , 甚至可用于7nm及以下芯片工艺制程 。 除此之外 , 由于不需要光掩模 , 光刻机的成本也会大大降低 , 一旦量产 , 这必将成为它最大的优势 。
虽然 , 现在已有的X射线光刻机的效率精度还不能超过EUV光刻机 , 但大毛研发X射线光刻机的资金 , 技术 , 决心样样不缺 , 研发成功只是时间问题 , 一旦成功 , 大毛或会直接闯出芯片封锁 , 而这对同样被断芯的华为来说 , 也会很值得高兴 , 毕竟突破老美的芯片封锁也是我们国产企业的目标 。 (竹子)
ASML不再供应光刻机 , 俄厂商掏出“备胎” , 连华为也能受益
华为的
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