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转自原作者：东方点兵
我国光刻机一项核心技术已实现重大突破 ， 这一突破 ， 有望在光刻机技术上打破荷兰的垄断！
目前国际上只有三家公司能够生产步进扫描光刻设备 ， 分别是荷兰的ASML、日本的NIKON 和CANON公司 。
此前《一网荷兰》曾发文称 ， 光刻机设备供应商ASML在举行电话会议时 ， 其总裁Peter Wennink在会议上明确表示：高端的极紫光（EUV）光刻机永远不可能被中国模仿 ， 况且中国在知识产权领域有良好的规定 。
Wennink也解释了为何不害怕中国会模仿光刻机 。
光刻机构成程序复杂 ， 制造过程需要巨大的工程量 。 荷兰ASML是系统的集成商 ， 他们是将百家公司的技术整合在一起 ， 进而组合成一个全新光刻机 。
这种机器有80000多个零件 ， 其中有90%的零件由供应商提供 ， 任何一方都不可能打造全部零件 ， 通常需要各国合力打造 。
Wennink表示 ， 他们光刻机的制造集合了当下世界上最先进的各种前沿技术 。 其中各种反光镜以及其他光学部件来自于德国的蔡司 ， 光源来自于美国的Cymer；计量设备来自于美国的世德科技；传送带来自于荷兰的VDL ， 而这世界上没有一个公司能够模仿他们 。
同时 ， ASML的机器装有传感器 ， 一旦检测到有异常情况发生 ， Veldhoven就会立刻响起警报 。
Wennink其实说的特别直白：像高端的EUV光刻机 ， 想要模仿是不可能的 ， 就算你出高价去买 ， 也不一定买得到 。
现状下 ， 我国的芯片就面临着被“卡脖子” ， 此前就出现过荷兰ASML迫于美国压力 ， 扣留EUV设备出口到中国许可证的情况 。
但现在 ， 我国的光刻机技术也在逐步实现突破 ， 一步步打破荷兰的垄断 。
工作台是步进扫描投影光刻机的核心子系统 ， 我国现在在工作台这一技术上已经有了重大突破 。
在清华大学机械工程系教授朱煜牵头作用下 ， 中国光刻机核心零部件顶级供应商华卓精科公司的光刻机双工作台宣布研发成功 ， 此项光刻机双工作台技术打破了荷兰ASML在光刻机双工作台技术上的垄断 ， 意味着华卓精科成为了全球第二家掌握双工作台核心技术的公司 。
双工作台技术对于光刻机来说到底有多重要？该技术的成功研发 ， 到底代表着什么？
一
光刻机的“心脏”
光刻的原理就是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶 ， 再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）通过掩膜照射在硅片表面 ， 被光线照射到的光刻胶会立即发生反应 。
之后用特定溶剂洗去光刻胶 ， 就实现了电路图从掩膜到硅片的转移 。
光刻完成后对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀 ， 最后洗去多余的光刻胶 ， 就完成了半导体器件在硅片表面的建构过程 。
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