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这个哥们是日本光刻胶公司的高管 ， 他说：中国很难掌握基于EUV光刻的复杂芯片制造技术 。
EUV光刻机是难 ， 但终归是人造的 。
中国人向来勇于挑战不可能 ， 并且历史经常证明 ， 中国突破封锁的时间往往不会太长 。
建议他先别担心中国光刻机了 ， 还是考虑下未来 ， 中国高端光刻胶可能会成为你的有力竞争对手吧 。
网友：还需要EUV吗？国产DUV明年量产之后 ， 也许2024年就可以量产7nm光刻机了 。 届时再利用华为的芯片叠层技术 ， 就解决了3.5nm～5nm的芯片制程了 。 1亿欧元的DUV ， 见鬼去吧 。
网友：我是从基本技术层面考虑的 ， 现在物理化学人才断档 。 加上教育教材老师等不靠谱 ， 基本物理和化学很难更新换代 ， 这就是光刻机很难突破的真实原因 。 卡脖子的是人才和教育！
【芯片|日本光刻胶公司高管：我国很难掌握基于EUV光刻的复杂芯片制造技术】网友：只要有市场 ， 初始技术可以是所谓落后一两代的 ， 但要切实可用的 ， 随着需求的发展 ， 经验的积累 ， 资金持续投入 ， 技术是可快速迭代的 。 关键是要突破从0到1的质变 。
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