|俄方自主研发“光刻机”技术,对我国有何影响?业内人士做出解读

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引言


在当今社会 , 各个国家之间不仅要比较经济实力 , 也要比拼科技水平 , 各类科技电子产品的涌现 , 方便了我们的生活 , 所以哪一个国家掌握了芯片技术 , 也就掌握了主动权 。
虽然我国的科技水平也十分优秀 , 但是我们在芯片方面仍然存在着短板 。 我们之所以没有办法 , 在短时间内拥有芯片领域的核心技术 , 主要就是因为我们还没有研发成功光刻机 。 如今俄方自主研发“光刻机”技术 , 那对我国有何影响?业内人士做出解读 。

一、俄方自主研发事实上除了我国以外 , 俄方在芯片领域也存在着短板 , 在之前的发展过程当中 , 俄方也强烈的依赖着其他国家的企业为其提供芯片 。 然而从今年的2月份开始 , 许多企业就受到了限制 , 无法再正常工作 , 在这其中就包括三星以及台积电 。
这些企业对于俄方来说是非常重要的 , 他们给俄方提供了芯片制造服务 , 然而现如今这些企业无法给俄方提供芯片 , 也就是说俄方必须要自己解决芯片的制造问题 。 除了要解决芯片问题以外 , 他们还要自主研发光刻机设备 。

一直以来 , 我国都在努力的研究着光刻机设备 , 不过这种设备是属于高端技术 , 在短时间内是不可能有成果的 。 人被逼入绝境 , 必然会出现奇迹 , 俄方为了能够进一步缓解芯片方面的被动局势 , 他们也决定开始从光刻机入手 。
俄方的技术学院已经正式拿下了 , 关于光刻机项目的研究任务 , 很显然下一步的目标就是自主研发全新的光刻机 。 ASML公司对外推出的EUV光刻机是国际市场上公认的光刻机产品 。 不过此次俄方研究的光刻机是一种全新的种类 , 它的级别也完全可以达到EUV的水准 。

俄方目前研究的EUV光刻机设备 , 决定采用X射线技术 , 波长在0.01nm到10nm之间 , 这种X射线要比我们了解到的EUV极紫外线还要短 。 如果要从分辨率方面来看的话 , 这两种射线之间的区别也并不是很大 , 这种X射线光刻机甚至要比原本的EUV光刻机拥有更高的分辨率 。
当俄方的研制技术传出之后 , 不少西方媒体也是明确对外表示 , 类似于这种全新的技术 , 就连ASML可能都没有办法做到 。 X射线光刻机这项技术一直都被研究学者提起 , 不过按照各个国家目前的技术水平和研制能力 , 暂时都没有办法将这类设备成功量产 。

虽说俄方在芯片技术领域一直都依赖着其他的芯片制造厂商 , 但是他们在 X射线光刻机领域却有着多年的技术积累 , 也就是说他们拥有比其他国家更扎实的基础 。 在后期的发展过程当中 , 俄方必然会在这一领域投入更多的资金和精力 , 也许不久的将来这一项光刻机技术就会得到理想的成果 。

二、华为或许能受益如果日后这种X射线光刻机技术真的可以研发成功 , 那么这也就代表着至此之后 , 俄方在芯片制造领域将掌握更多的主动权 , 绝对不会再出现受制于人的情况 。 当然华为方面也有机会向俄方争取购买到X射线光刻机 , 以此来解决芯片短缺的问题 。

回想之前 , 华为方面也受到过美方的制裁 , 美方就是采用了芯片制裁的策略 , 对华为进行了一系列的打压措施 , 导致华为的发展受到了严重的影响 。 虽然后期华为方面也付出了许多的努力 , 竭尽全能的提高自己的芯片制造技术 , 不过这也不是一朝一夕就可以实现的 。

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