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造EUV光刻机到底有多艰难呢？像ASML工程师说的一样：就算是将光刻机的图纸给了中国 ， 那么中国也是造不出来的 。
而发展到现在 ， ASML虽说也再次提及类似这样的言论 ， 但是也有突然的“变脸” 。 就在前段时间 ， ASML表态：中国是不太可能独立的复制出尖端的光刻机技术 。 本以为 ， 现在的ASML跟以前一样有莫大的底气 。 但事实上 ， 在说出了这一番话之后 ， ASML又改口给自己留了一丝余地 。 声称 ， 也不是完全没有可能 ， 因为中国的科学家是会不断去尝试的 。
当时 ， 小编还不明白ASML为何突然就“变脸” ， 对中国尖端光刻机的研发一边泼冷水 ， 一边又给了一些“信心” 。 但是当EUV光刻机关键技术 ， 被宣布突破之后 ， 小编终于明白了ASML改变态度的原因 。
近日 ， 《半导体学报》发布了2021年度中国半导体十大研究进展报告 。 据报告中的信息显示：北京大学电子显微镜实验室高鹏研究员研究组 ， 已经成功的掌握了扫描透射电子显微镜技术 。 而且还不仅是如此 ， 此项技术突破了传统的局限 ， 实现了精度更高的EUV光镜制程技术 。 这意味着 ， EUV光刻机的关键技术再次宣布了突破 。
幸运的是 ， 在EUV光刻机的物镜、光源、双件工作台这三项关键的核心技术上 ， 我们中国的科研机构以及半导体企业等都在陆陆续续的完成了突破 。 那么现在这种局面对于我们来说无疑是一个不错的消息 。 毕竟 ， 当科研成果进一步商业化的时候 ， 我们距离造出EUV光刻机的进程也就更短了 ， 届时打破ASML在EUV光刻机市场上的垄断地位也指日可待 。 这也难怪ASML会变脸 。
而个人也认为 ， 这一项关键技术的突破也关乎于华为、中芯的“命运” 。
且看华为现在的麒麟芯片所遭遇的困境 ， 其实破解的方法就是需要我们有自主研发的EUV光刻机 。 一旦EUV光刻机被研发出来 ， 那么华为的麒麟芯片就可以重见天日 ， 那么对于华为手机业务的命运来说可是一大幸事 。
而中芯 ， 虽说代工实力正在不断的增强 ， 但是就EUV光刻机上这一点也是中芯暂时无法更快推进先进工艺制程的短板 ， 导致和台积电以及三星的代工实力还有差距 。 但若是EUV光刻机被彻底突破 ， 中芯获得了EUV光刻机 ， 加之梁孟松等一众科技人员的努力 ， 那么中芯在全球的芯片代工市场上实力或将大增 。 未来那个时候的中芯 ， 跟现在的局面多半都不同 。
因此 ， 个人才觉得当下这一项关键的技术被突破也是关乎到了中芯以及华为 ， 或者说更多在这方面被限制企业的命运 。 总而言之 ， 我们也终于是等到了这一天 ， 看到了在EUV光刻机上更大的希望 。 相信 ， 在更多科技人才努力之下 ， 属于中国制造的EUV光刻机也能很快的面世 。
【光刻机|EUV光刻机关键技术，迎来突破后，终于明白ASML为何“变脸”了！】对此 ， 你们是如何看待的呢？欢迎留言评论、点赞和分享！
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