文章图片
文章图片
文章图片
文章图片
文章图片
也许你在用的电脑 ， 所用芯片的工艺还是14纳米 ， 但是现在的芯片制造工艺 ， 已经推进到了3纳米 。
而且 ， 芯片工艺的推进速度 ， 还没有看到减慢的迹象 ， 例如台积电近日就宣布 ， 其3纳米研发团队 ， 开始向1.4纳米进发 。
制造工艺这么先进的芯片 ， 离不开精良的设备 ， 也就是EUV光刻机 ， 正如大家所了解的 ， 我们还无法进口这款设备 。
因此即使是5纳米芯片 ， 大陆中企晶圆厂也无法进行实验性的量产 。
很显然 ， 如果要打破这样的局面 ， 基本就是两个办法 。
第一个 ， 寄希望ASML可以获得授权 ， 开放向我们供货 ， 但是这个选择就显得太被动了 ， 如果迟迟不开放 ， 那岂不是我们永远都无法制造先进工艺的芯片了 。
所以第二种办法更靠谱一些 ， 也就是自主研发 。
相信有的朋友还记得 ， 在2020年的时候 ， 中科院院长白崇礼曾经表示 ， 将会解决一批卡脖子的问题 ， 其中光刻机就赫然在列 ， 当然 ， 这里指的就是EUV光刻机 。
当时不禁有网友表示 ， ASML研发EUV相关的技术有二十多年历史 ， 我们则刚宣布要解决这个问题 ， 是不是有点不太现实了 。
那么真的如此吗？其实不然 。
实际上 ， 中科院早就开始了在EUV方面的技术研发 ， 而ASML方面其实也传出消息 ， EUV光刻机的“大门”正在向中企打开了 ， 结局已经基本清晰了 。
可能很多朋友不知道 ， 在某个科技领域要计划实现突破 ， 甚至国产替代 ， 不是马上组织实施 ， 给资金、给团队、给资源等就可以解决的 ， 这需要很多的积累 ， 其中非常重要的就是专利积累 。
这是因为 ， 如果你没有申请到足够的专利 ， 那么在以后的设备研发上 ， 很可能你就会侵权 。
ASML在光刻机领域已经很强大了吧 ， 但是ASML依然需要在专利方面深耕 ， 例如在2019年 ， ASML就向尼康支付了1.5亿欧元的专利诉讼和解费用 。
在更早的2007年 ， ASML还与佳能进行了专利方面的交叉授权 。
因此如果没有一定的专利积累 ， 将会很难在这个领域立足 。
而我们发现 ， 中科院早在2002年就开始研发EUV方面的技术 ， 并且已经申请了专利 。
可以看到 ， 在2002年6月24日 ， 中科院光电院就申请了一项“自适应全反射极紫外投影光刻物镜”的专利 。
在专利的摘要解析当中明确指出 ， 该专利技术用于EUV光刻机当中 。
但中科院的努力可不止这些 ， 除了上面我们谈到的中科院光电院 ， 还有中科院长光所、上光所、微电子所和高能物理研究所等 。
其中已经申请的EUV专利上百项 ， 就在今年的三月份 ， 则刚刚公开了一项新的EUV专利 ， 申请方为中科院上光所 。
由此可见 ， 在白院长2020年宣布要解决卡脖子的EUV光刻机时 ， 其实中科院方面早就努力了至少18年的时间 。
很显然 ， 多年的专利积累 ， 已经为我们实现EUV光刻机走向量产 ， 做好了一条护城河 。
相关经验推荐
- 光刻机|日本之后，中国也研发出无需光刻机技术，ASML该何去何从？
- 荣耀Magic4|中科院宣布研发光刻机，ASML立刻回马枪，英特尔和AMD恢复供货
- 微软|中国突破EUV光刻机关键技术，ASML地位不稳？别盲目高兴
- 主板|中科院宣布研发光刻机，ASML立刻放回马枪，英特尔和AMD恢复供货
- 阿斯麦尔|中科院宣布研发光刻机，ASML立刻回马枪，英特尔和AMD恢复供货
- 阿斯麦尔|中企深夜回应光刻机巨头ASML，自研核心技术“变味”了？
- AMD|中科院“霸气”摊牌：外媒：狠狠打了老美的脸？
- 纳米|光刻机（曝光机）光栅尺国产化开发技术分析
- 光刻机|国产光刻机被中企拒之门外，ASML大获全胜，意味着什么？
- 阿斯麦尔|ASML之后，日本光刻胶巨头也表态了：中国难以掌握EUV技术