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芯片|ASML的坏消息，日本厂商新技术，不要EUV光刻机，可生产5nm芯片

芯片|ASML的坏消息，日本厂商新技术，不要EUV光刻机，可生产5nm芯片
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芯片|ASML的坏消息，日本厂商新技术，不要EUV光刻机，可生产5nm芯片
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众所周知 ， 在芯片生产过程中 ， 光刻机是绕不过的设备 ， 如果从整个生产来看 ， 光刻机的成本占总设备成本的30% 。
最关键的是 ， 当进入到7nm工艺后 ， 必须要用到EUV(极紫外线)光刻机 ， 这种光刻机只有荷兰ASML能够生产 ， 且产能有限 ， 厂商们要买到 ， 并不容易 ， 要排除 ， 且ASML要优先供应台积电、三星、intel这几家股东 。
所以一直以来 ， 大家都在寻找其它办法 ， 比如不用EUV光刻机 ， 能不能生产7nm及以下的芯片？事实上 ， 也有厂商是这么想并打算这么干的 ， 因为通过DUV光刻机进行多重曝光 ， 理论上也能达到7nm 。
但这种办法非常复杂 ， 对技术要求非常高 ， 同时良率低 ， 晶圆的损耗比较大 ， 所以如果能够买到EUV光刻机 ， 就不可能用这种办法 ， 这种办法生产出来的芯片 ， 完全没有市场竞争力 。
而近日 ， 日本厂商搞出了另外一种办法 ， 那就是不采用DUV多重曝光 ， 而是开发了一种新的NIL制程技术 ， 这种技术不需要EUV光刻机 ， 就可以将芯片制程推至5nm 。
这家厂商就是日本的存储大厂铠侠Kioxia（东芝） ， 它与日本的光学/半导体厂商佳能 ， 还有光罩/半导体厂商大日本印刷株式会社（DNP） ， 经过了4年的研发 ， 终于研发出了纳米压印微影(NIL) 的量产技术 。
目前铠侠已将其应用到了15nm的NAND闪存制造上了 ， 并表示到2025年应该可以应用到5nm的芯片制造上 。
【芯片|ASML的坏消息，日本厂商新技术，不要EUV光刻机，可生产5nm芯片】铠侠表示 ， NIL 技术与EUV光刻技术相比 ， 可以大幅度的减少耗能 ， 转化效率高 ， 耗电量可压低至EUV 技术的10% ， 同时NIL技术下的设备也便宜 ， 与ASML的EUV光刻机相比 ， 投资可降低至仅有EUV 设备的40% 。
不过也有专业人士指出 ， NIL技术也许能够推进芯片制程至5nm ， 但可能更适应于NAND这种3D堆叠的闪存芯片 ， 不一定适用于所有的芯片 。
不过合作厂商之一的佳能 ， 则表示要努力的将NIL 量产技术广泛的应用于制作DRAM 及PC 用的CPU 等逻辑芯片的设备上 。
对于这个技术 ， 不知道大家怎么看？如果真的能够推进至5nm ， 且用于除NAND之外的通用芯片 ， 那么ASML就必将走下神坛 。
甚至从一定程度而言 ， 也是国产芯的好消息 ， 你觉得？对于这样的弯道超车的技术 ， 真希望它能够多一点 ， 并且是中国厂商研发的就好了 。

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