现在光刻机的原理，不管是DUV，还是EUV，大家都懂的，其实就是类似于单反相机，用光线，把掩膜板上的图形，缩小以后投影到硅片上 。
只不过光刻机的像素更高，7nm芯片光刻的话 ， 像素要在室1600亿像素才行 ， 目前手机摄像头像素最高为2亿 ， 光刻机至少是2亿像素的800倍 。
DUV、EUV光刻机，只不过是曝光的光线不同而已，比如DUV采用的是243nm或193nm的深紫外线，而EUV采用的是13.5nm的极紫外线 。
明明这么简单的原理 ， 为何却造不出来？这里，其实关键还是我们缺少一家像蔡司这样的顶级光学设备厂商 。
在光刻机里面，有三大核心，不管是DUV ， 还是EUV都是如此 。这三大核心是光源、物镜系统，工作台 。
光源就是193nm或13.5nm的光源 。而物镜系统就是怎么将这些控制好，进行精细的光刻 。而工作台，则是放置晶圆，然后根据芯片设计图，精细的控制这些晶圆的移动，别刻歪了 。
目前国内在光源、工作台上 ， 其实是有一些积累的，所以国产DUV光刻机是有的，上海微电了就有这种光刻机 。
但物镜系统上 ， 就真的被卡住了 。
拿EUV光刻机来说，使用13.5nm的光线 ， 这种光线波长太短，空气都穿不透，所以只能在真空中传播，同时现实中没有任何材料能够反射它 。
所以要控制这种光线，需要几十层钼和硅层层叠叠摞起来 ， 还要在镜片上镀膜才能完成，每一层膜都只有纳米级别的厚度，每层误差不能超过0.01纳米 。
这样的镜面究竟有多平整？要求是起伏度要低于在地球表面大小的平面上放一根头发丝 。
目前国内拥有这个技术的光学厂商没有，甚至全球也就蔡司一家才有，连尼康、索尼这样的日本顶级光学设备厂商 ， 都做不出来 。
有人称，从0开始 ， 直到拥有这种光学技术，可能比从0开始，制造光刻机都更难 。因为光刻机的核心原理 ， 其实就是制造出全世界最大、最精细的单反 ， 核心在于光学系统 。
所以 ， 如果大家在网上看到什么国产EUV光刻机有突破了，马上要推出了之类的新闻，先看看突破的是光源，还是工作台，或者是光学设备 。
【euv光刻机原理 ：我们为何造不出EUV光刻机？核心是缺少蔡司这样的光学厂商】如果光学设备没有突破，那么就是假的，因为目前国产连DUV的物镜系统都搞不定 ， 需要进口，EUV就更不要说了，这种技术没有捷径 ， 也不可能弯道超车，只有一步一步来的，类似于建房子 ， 第1层都没建好，你说直接从空中开始，修第30层 ， 谁信？
