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ASML对掌握EUV光刻机的生产技术十分自信 ， 表示即便放出图纸 ， 别人也造不出 。 很多光刻机巨头也明白造EUV光刻机的难度 ， 所以基本上只专注中低端光刻机 ， 对高端EUV光刻机并未全力以赴 。
然而俄罗斯传出新消息 ， 计划研发媲美EUV的光刻机设备 ， 自主打造高端光刻机 。 俄罗斯定下怎样的高端光刻机研发计划呢？能利好华为吗？
俄罗斯定下高端光刻机研发目标高端EUV光刻机的生产难度相信大家都有所耳闻 ， 很多人为形容生产EUV光刻机的难度 ， 会列出一大堆数据 。 例如采用10万个零部件 ， 90%的技术来自世界各国顶级科技 ， 还有5000家供应商等等 。
涉及到光刻机的四大件 ， 更是需要几十年的技术沉淀 ， 不是一个国家能独立造出来的 。 可我们一直被传统的思想观念给束缚了 ， ASML作为唯一能生产EUV光刻机的制造商 ， 其在中高端光刻机技术领域采用的是深紫外和极紫外光技术 。
最高的极紫外光EUV可以达到13.5nm波长 ， 适用于7nm及以下的芯片制造 。
可是俄罗斯另辟蹊径 ， 没有从传统的极紫外光方向出发 ， 而是打算采用X射线打造出媲美EUV光刻机的半导体设备 。 具体是什么情况呢？
据传来的消息显示 ， 俄罗斯计划首期投资6.7亿卢布 ， 由莫斯科电子技术学院承接高端光刻机项目 。 这一光刻机被称作无掩模X射线光刻机 ， 计划达到EUV光刻机级别 。
大致情况就是如此 ， 俄罗斯拿出不菲的研究经费 ， 还是由俄罗斯最顶级的研究学府机构参与项目 。
但大部分人对于俄罗斯的这项举动是有些匪夷所思的 ， 研发EUV光刻机何等艰难 ， ASML也是靠着背后几十个EUV联盟国的共同扶持才有的今天 。
ASML生产的EUV光刻机自主技术占比只有10% ， 其余均靠进口完成 。 而现在隔壁邻居犹如一叶扁舟 ， 遗世而独立 ， 怎么可能获得来自这么多国家的技术支持 。
更何况是当下这种情况 ， 又有多少供应商会供应技术 。 所以只能靠自己 ， 那问题是俄罗斯自研高端光刻机有多大的把握 ， 或者有哪些技术优势？
俄罗斯研发X射线光刻机的优势这就不得不提到X射线了 ， X射线比极紫外光有更短的波长 ， 可以达到0.01nm到10nm ， 这决定了X射线光刻机有更高的分辨率 。 对刻画更细小的芯片电路有更大的技术优势 。
另外X射线光刻机没有光掩模版 ， 省去了传统EUV光刻机光掩模复刻电路图到硅片上等多个步骤 。 如此一来 ， 研发成本和生产难度都会大大降低 。
最后一个就是俄罗斯有深厚的X射线技术积累 ， 意味着俄罗斯并不是从头开始 。 估计只需要一定程度的推动和资金支持 ， 加大对X射线光刻机的研发 ， 就有可能获得实际成果落地 。
所以俄罗斯研发X射线光刻机的优势是比较明显的 ， 如果没有绝对的把握 ， 估计对方也不会定下如此远大的目标 。
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