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按照摩尔定律 , 每18个月芯片的晶圆管密度就会提升1倍 , 从而性能翻倍 。
过去的这几十年间 , 芯片制程其实差不多是按照摩尔定律走的 , 直到进入7nm后 , 基本上就无法按照这个定律走了 , 比如5nm、3nm的演进就慢了很多 , 所以很多人称现在摩尔定律已死 。
不过近日 , IMEC(比利时微电子中心)还是展示了一张最新的芯片制造发展路线图 , 一路看到了2036年的0.2nm工艺 , 表示接下来芯片制造还是会按照摩尔定律走下去 。
如下图所示的这个演进路径 , 2022年实现N3也就是3nm , 2024年到2nm , 2026年到A14也就是1.4nm , 2028年到1nm , 并且还会演进 , 到2036年是直接达到0.2nm 。
同时在晶圆管技术上 , 也有技术演进 , 目前是FinFET , 而到2nm时会换成GAAFET , 再到0.5nm时 , 会换成CFET技术 。
不过 , 大家看看我在上图标的绿色框 , 这里指的是MP金属栅极距 , 这是真正代表晶体管密度 , 也就是工艺指标的参数 。
它在1nm之前还是在不断变小的 , 直到1nm工艺时 , 为16nm , 但接下来不管工艺怎么先进 , 其参数一直处于16-12nm间了 。
意思就是晶体管密度其实不再怎么变化了 , 不管你是1nm , 还是0.5nm , 或者0.2nm , 这个MP金属栅极距基本不变了 。
事实上 , 之前已经有科学家表示 , 当芯片工艺在1nm之后 , 量子隧穿效应有可能会让半导体失效 , 估计这也是为什么1nm后 , 这个MP金属栅极距不变了 , 因为不可能再变小了 。
这也代表着接下来工艺究竟是多少nm , 它与晶体管密度没有太多关系了 , 更多的还是数字游戏了 , 晶圆厂商们愿意说多少nm , 就是多少nm , 与MP金属栅极距不再有对应关系 。
【芯片|如果摩尔定律不死,2028年实现1nm芯片,但之后就是数字游戏了】事实上 , 在进入10nm之后 , 大家就吐槽台积电、三星的所谓nm工艺制程与MP金属栅极距已经不再有对应关系 , 更多的是数字营销游戏 , 只有英特尔或是清白的 , 但到了1nm后 , 那就大家都要玩数字游戏了 , 那这样的摩尔定律究竟还有没有意义?
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