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近期 ， 关于High-NA光刻机订单传出了不少消息 ， 但似乎并没有ASML说的那么好 。 那么 ， ASML到底公布了哪些订单消息？在ASML正式唯一确认了订单的英特尔 ， 为何又有了什么新的表态？
ASML对外公布的订单信息进入后3nm时代 ， ASML表示 ， 正在与其合作伙伴一起开发下一代High-NA光刻机 ——Twinscan EXE:5000 系列 。 据了解 ， 新High-NA光刻机具有0.55NA（高 NA）的透镜 ， 分辨率达 8nm ， 将非常复杂、非常庞大且价格昂贵 ， 更有利于3nm及以上制程的工艺制造 。
至于下一代High-NA光刻机的订单 ， 似乎ASML表态的都较多 ， 但貌似有点模糊 。 早在几周前 ， 在2022年第一季度的财报上 ， ASML就称其已经收到了多个客户的 High-NA Twinscan EXE:5200 系统 (EUV 0.55 NA) 订单 。
但是 ， 上周ASML接受路透社采访时 ， 又澄清了一下说辞 ， 表示：公司已经获得了 5 个 High-NA 产品的试点订单 ， 预计将于 2024 年交付 ， 并有着“超过 5 个”订单需要从 2025 年开始交付的量产型号 。
并且 ， ASML对5个试点订单 ， 做了详细阐述：包括3个逻辑芯片客户和2个存储芯片客户 。 有意思的是 ， 2020-2021年ASML就开始在说收到了三家客户的 High-NA 意向订单 ， 共提供多达 12 套系统 。 但是 ， 截至目前 ， 仅有英特尔的订单是被确认了的 ， 其余均未有任何的消息 。
就在英特尔被确认使用High-NA光刻机后 ， 其官方又发出了不一样的表态 。
按照原计划 ， 英特尔18A节点将于2025 年进入大批量生产 ， 刚好对的上ASML说的2025 年开始交付的量产型号 。 但近期 ， 英特尔方面表示延迟了18A 的生产规划 ， 预计在2024年下半年才开始规划 ， 同时表示该节点可以使用 ASML 的 3600D或者3800E来生产 。
很明显 ， 这与ASML所确定的订单内容 ， 不太一致 ， 英特尔为何会这样呢？
英特尔为何会发表新的表态？笔者认为 ， 之所以英特尔会有此表态 ， 并非说更先进的EUV 0.55 NA不够好 ， 而是新一代的高NA光刻机不一定那么“香” 。 比如技术成熟度还有待检验 ， 是否真的那么被需要还不好说 。
这两点的表现如下：
一、制造出High-NA EUV挑战不小
EUV光刻机是一个集体智慧的产品 ， 是一个由全球近800家供应商提供高端零配件 ， 且有数十万个零件组成的大件设备 。 而ASML也仅仅是有着核心技术 ， 组合这些高端零配件的厂家 ， 因此 ， 仅有它一家努力还远远不够的 ， 零配件厂商也需要共同研究更高端的技术 。
以目前来看 ， 要解决的核心问题包含：分辨率的要求要提升 ， 否则会因为随机现象和图案崩溃影响良品率；更先进的光源要求 ， 否则无法支持光子散粒噪声和生产力的要求；需要更高要求的偏振控制 ， 才能在0.55NA下保持高对比度；需要有更先进的计算光刻能力；配套的掩膜制造和计量基础设施；以及需要大芯片的解决方案 。
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