asml|美就EUV光刻机增设新规，ASML紧急展开布局，中国院士发出警告
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相比于DUV光刻机 ， EUV设备不仅能完成7nm、5nm等更高制程工艺芯片的制造 ， 而且在产能、良率上也有较大的提升 。 EUV自2015年商用至今 ， 主要是用于智能手机的核心处理器芯片 ， 比如华为的麒麟9000、苹果的A15以及高通的骁龙888等等 。
不过 ， 随着智能产品的不断普及与技术升级 ， 其他类型芯片的制程工艺也在提升 ， 比如DRAM存储芯片 。 为了控制成本并提高生产效率 ， SK海力士、三星等存储芯片巨头决定采用EUV设备来生产 。
这意味着 ， EUV光刻设备的市场需求将越来越大 。 为此 ， ASML方面决定扩大产能 ， 计划在未来三年时间里再制造出140台EUV设备 ， 与此同时还研发了新一代高端光刻机 。
ASML一方面是为了尽可能的满足台积电、三星、英特尔、SK海力士等客户的需求 ， 另一方面则是为实现对华自由出货做准备 。 因为只有当EUV设备不再稀有且不再是最尖端的设备之时 ， ASML才有可能拿到EUV设备面向中国市场的出口许可 。
然而 ， 没想到的是 ， 美半导体突然修改规则 ， 对EUV设备增设新规 。 现在不再只是限制中企向ASML采购EUV光刻机 ， 而且还干预海外企业中国分厂引入EUV 。
外媒于11月19日报道 ， 美国方面认为SK海力士中国分厂引进EUV设备的计划 ， 有可能会把先进的技术流入大陆市场 ， 于是决定扼杀这种风险 。
要知道 ， SK海力士、三星这些海外企业在我国市场都设立了很多分厂 ， 而且其超过一半的产能都在这里 ， 也就是说 ， 它们向ASML采购的这批EUV设备中有一大半都是要用于我国市场的分厂 。
可随着美国的干预 ， 它们或被迫大幅减少EUV光刻机的采购 ， 毕竟该设备价值高达1.2亿美元 ， 如果买来后无法立刻投产 ， 那这成本就实在是太大了 。
对于这突如其来的“新规” ， 做出扩产决定的ASML也是始料未及 ， 如今EUV设备非但无法实现自由出货 ， 就连外企在中国的分厂也无法再使用了 ， 这相当于是直接切断了它与国内市场有关EUV设备的一切关联 。
这样的结果显然是ASML不愿意看到的 ， 一方面是由于我国是全球最大的半导体消费市场、EUV设备又是利润最高的产品 ， 这关乎着ASML的营收；另一方面 ， 美国不留余地的收紧对EUV设备的出口限制 ， 必然会加快我们自主研发的脚步 ， 一旦物美价廉的国产高端光刻设备正式落地 ， ASML独一无二的市场地位必然会受到冲击 。
也正是由于这些原因 ， ASML在国内光刻市场紧急展开了两项布局 。
首先 ， 加大DUV设备的出货 。 ASML中国区总裁沈波在上海进博会上强调：DUV设备可以对中国市场自由出货 。 很显然 ， 这是在催促着我们主动大量采购 ， 其目的是在上海微电子研发的国产浸没式DUV光刻机落地之前 ， 尽可能的抢占市场 ， 防止未来被排除在外 。
其次 ， 在我国市场增设研究所 ， 广纳华人光刻工程师 ， 借助国内光刻人才为其创新技术、创造专利 。
这可谓是“一箭双雕” ， 因为随着国内市场在ASML的EUV产线上技术占比的不断增多 ， 美技术占比就会不断减少 ， ASML也就有机会实现自主开放；与此同时 ， ASML凭借着在国内市场积累的大量专利 ， 将可以通过“专利授权”的方式 ， 让我们无法摆脱对它的依赖 。
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